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A novel removal strategy for copper and arsenic by photooxidation coupled with coprecipitation: Performance and mechanism 期刊论文
Chemical Engineering Journal, 2020, 卷号: 401, 页码: 126102
作者:  Wei Ding;  Hui Tong;  Dan Zhao;  Huaili Zheng;  Chengshuai Liu;  Jinjun Li;  Feng Wu
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