GYIG OpenIR  > 环境地球化学国家重点实验室
纳秒脉冲激光制备黑硅及其光学性能的研究
王可; 王梓霖; 周晓雨; 黄伟其; 张铁民; 彭鸿雁; 王安琛; 张茜; 黄忠梅; 刘世荣
2024
发表期刊量子电子学报
卷号41期号:5页码:813-821
摘要

利用纳秒脉冲激光器在常温常压室内环境下扫描刻蚀单晶硅片,通过改变扫描方式和扫描的线间距制备了各种不同结构的黑硅样品,重点研究了扫描方式、扫描间隔、高温吹氧退火时间等对黑硅光致发光(PL)特性的影响,以及不同参量制备的硅表面微结构对光吸收率的影响。利用透射电子显微镜、扫描电子显微镜、光学显微镜、拉曼和荧光光谱仪、吸收光谱仪等对制备的黑硅样品形貌、光吸收和PL发光特性进行了检测与表征,获得了吸收率高于90%且具有良好发光性能的黑硅结构样品。研究发现,采用线性扫描方式制备的黑硅样品的PL光谱主要分布在红光波段,而采用正交扫描方式制备的黑硅样品的PL光谱中在近红外900 nm附近有稳定的发光峰;此外,在黑硅样品中还观察到630 nm附近的电子局域态发光,并通过建立对应的物理模型解释了其发光机理。

关键词激光技术 黑硅 吹氧退火 光致发光谱 反射谱 局域态发光
DOI10.3969/j.issn.1007-5461.2024.05.011
收录类别CSCD
语种中文
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.gyig.ac.cn/handle/42920512-1/15454
专题环境地球化学国家重点实验室
作者单位1.海南师范大学物理与电子工程学院
2.中建材光子科技有限公司
3.贵州大学材料与冶金学院
4.复旦大学表面物理国家重点实验室
5.中国科学院地球化学研究所环境地球化学国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
王可,王梓霖,周晓雨,等. 纳秒脉冲激光制备黑硅及其光学性能的研究[J]. 量子电子学报,2024,41(5):813-821.
APA 王可.,王梓霖.,周晓雨.,黄伟其.,张铁民.,...&刘世荣.(2024).纳秒脉冲激光制备黑硅及其光学性能的研究.量子电子学报,41(5),813-821.
MLA 王可,et al."纳秒脉冲激光制备黑硅及其光学性能的研究".量子电子学报 41.5(2024):813-821.
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